| 設(shè)備名稱 | 0.7L等離子清洗機(配真空計,3"Dx 6.5"L石英腔室,13.56Mhz)-PDC-36G （2019.11.26—科晶實驗室審核） |
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| 產(chǎn)品提示 | 1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實驗室邀請?zhí)崾?/strong> 4、配件妥善保管提示 |
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| 相關(guān)視頻 |
操作視頻 |
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| 設(shè)備特點 | ·結(jié)構(gòu)緊湊、小型化的桌上型儀器 ·用各種氣體清洗和去除晶片上納米級有機污染物。 ·在制膜實驗之前預(yù)先清潔鍍膜基底的優(yōu)秀工具。清洗后鍍膜的質(zhì)量可以更好。 ·鉸鏈?zhǔn)介T，方便裝樣 ·石英腔的直徑是3英寸，在里面可以放入一個石英舟，最大清洗一個2英寸的基片。 ·清洗腔里面的石英管可以拆卸，方便清洗和更換 ·使用可調(diào)射頻電源，可以設(shè)置功率為低、中、高級別；低成本、操作安全。
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| 主要參數(shù) | ·等離子直流電源：
·射頻源輸出頻率：13.56MHz； ·輸入電壓：220V,50Hz； ·壓力范圍：1-1999TOrr； 更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部 |
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| 機體結(jié)構(gòu) | 等離子腔室：·直徑75mmx長200mm的石英墻體，前蓋可以開啟。 ·高純度石英腔體，使用壽命比玻璃長。 閥門：·1/8英寸針閥控制進(jìn)氣。 ·1/8英寸三通球閥控制氣體進(jìn)出。 真空計：設(shè)備標(biāo)配一個電阻規(guī)和數(shù)顯電阻真空計用于實時監(jiān)測清洗倉內(nèi)的真空度。
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| 工作氣體 | ·多種氣體可以用于等離子清洗，例如氮氣、氬氣、空氣、混合氣體，主要取決于處理何種材料。 ·可以使用<4％的H2混合惰性氣體 |
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| 等離子清洗及刻蝕的方法 |
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| 工作原理 | |||||||||||||
| 外形尺寸 | ·353mm（L）x380mm（W）x225mm （H）
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| 凈重 | （不含泵）8kg |
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| 質(zhì)保期 | 一年保修，終身技術(shù)支持。 特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 點擊查看售后服務(wù)承諾書 |
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| 認(rèn)證 | ·此產(chǎn)品已通過CE認(rèn)證 證書編號：M.2021.206.C67994 ·若客戶出認(rèn)證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證
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科晶應(yīng)用技術(shù)實驗室用此設(shè)備清洗基片，清除表面污染物，以供參考。
清洗前向基片上滴入0.05ml水滴，其結(jié)果如圖所示。通入氬氣清洗十分鐘后，向基片上滴入0.05ml水滴，其結(jié)果如圖所示。 | ||
石英 |
圖1 清洗前 | 圖2 清洗后 |
硅片 |
圖3 清洗前 | 圖4 清洗后 |
應(yīng)用技術(shù)提示 | 1、使用時間不建議超過一小時。 2、如果清洗機腔室，不能立即充氣，油會回流到腔室污染系統(tǒng)。真空泵需安裝防回油裝置。 3、為保護(hù)設(shè)備，設(shè)備工作后能立即關(guān)機，但關(guān)機后最好在10秒后再開機工作。 4、腔室需定期進(jìn)行清洗。 |
警示 | 1、腔室內(nèi)不能 通入正壓。 2、真空狀態(tài)下不要打開前級法蘭，防止損壞玻璃室。 5、此設(shè)備不能使用可燃性、腐蝕性及有毒有害氣體。 |
可選配件 | 1、您可以訂購額外的石英腔體，用于備用。 |
2、如果需要一個通入兩種氣體的工藝解決方案，PDC-36G等離子清洗機可以與2路混氣系統(tǒng)組合。
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3、您可以訂購石英晶片載體來清潔2英寸晶片。
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4、您可選配雙極旋片式真空泵進(jìn)行抽真空。
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